Безмасляные форвакуумные насосы для полупроводниковой промышленности A4H/A4X

Многозадачность и компактность:

Вторая серия насосов A4H/A4X представляет собой 4 модели в 3-х исполнениях для различных применений:

• LM для чистого применения
• P для химических процессов
• H для высоко агрессивных химических процессов

Насосы второго поколения вобрали в себя опыт более чем десятилетнего анализа работы у крупнейших производителей полупроводников. Насосы позволяют заметно увеличить производительность и уменьшить незапланированное время простоя и эксплуатационные расходы.

Высочайшая надежность:

• широкие каналы между ступенями способны поглотить большие количества пыли и частиц
• высокая рабочая температура с точной системой терморегулирования с обратной связью и линейным повышением температуры от фланца всасывания до выхлопа
• вертикальный процесс откачивания на каждой ступени, который препятствует скоплению частиц пыли в зонах вращения ротора насоса
• использование литой стали и специальных сплавов для изготовления компонентов насоса обеспечивает высокую коррозионную стойкость и механическую прочность.

Соответствие требованиям полупроводниковой промышленности:

• компактность: Серия 2 всего 390 мм в ширину
• чистота: бесконтактная технология многоступенчатого Рутса и отсутствие масла полностью исключают возможность загрязнения.

Низкая стоимость владения:

• низкое энергопотребление
• небольшая теплоотдача насосов серии 2, позволяет уменьшить поток охлаждающей воды
• возможность изменения величины продувочного газа вручную. Насосы версии LM не требуют продувки\
• низкий уровень шума: Все модели имеют встроенный глушитель
• насосы соответствуют требованиям Semi S2

Применения:

ADP122LM, ADS602LM
• загрузочные шлюзы
• камеры перегрузки
• PVD (Напыление)

ADP122P, ADS602P, ADS1202P, ADS1802P
• озоление
• стриппинг
• травление
• ионная имплантация
• CVD (осаждение)

ADS602H, ADS1202H, ADS1802H
• PECVD (плазмохимическое осаждение)
• LPCVD (осаждение на пониженном давлении)

Технические данные: